114物理分科測驗24 - 哇來找自然

<題組題>[題組:第24-26題]
◎在半導體製程中需要有曝光機（光源），將光罩上的線路圖形縮小投影成像到晶圓上。已知常用的光源波長有紫外光（UV）436nm、365nm，深紫外光（DUV）248nm、193nm及極紫外光（EUV）13.5nm。某半導體公司在研發半導體製程中，曾在晶圓與光源間注入純水，利用波長193nm曝光機在晶圓上製得比使用乾式157nm曝光機更小的線路線寬。
光在單位面積單位時間內通過的能量值稱為光的強度。光在水中傳播時，其強度I會隨傳播距離z的增加而衰減，關係式為 \( I = I_0 e^{-\alpha z} \)，其中α為衰減係數、\( I_0 \)為起始強度、e為自然常數（近似值2.7，其倒數 \( e^{-1} \approx 0.37 \)）。圖10是水的吸收光譜，橫軸為光源的原始波長，縱軸為光在水中的衰減係數。圖10中橫軸與縱軸為對數坐標，坐標軸上刻度的位置是由坐標軸刻度數值取以10為底的對數值而決定。